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微波高頻

微波高頻

微波印制電路板多層化制造研究
2020-10-28
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1、前言

  眾所周知,我們將波長(zhǎng)短于300mm或頻率高于1000MHz(1GHz)之電磁波,稱為微波。微波印制板是指在特定的微波基材覆銅板上,利用普通剛性印制板制造方法生產(chǎn)出來(lái)的微波基板。

  在印制線路板導(dǎo)線的高速信號(hào)傳輸線中,一類是高頻信號(hào)傳輸類電子產(chǎn)品,這一類產(chǎn)品是與無(wú)線電的電磁波有關(guān),它是以正弦波來(lái)傳輸信號(hào)的產(chǎn)品,如雷達(dá)、廣播電視和通訊(移動(dòng)電話、微波通信、光纖通信等)。

  為了達(dá)到高速傳送,對(duì)微波印制板基板材料在電氣特性上有明確的要求。在提高高速傳送方面,要實(shí)現(xiàn)傳輸信號(hào)的低損耗、低延遲,必須選用介電常數(shù)和介質(zhì)損耗角正切小的基板材料。高速傳送的基板材料,一般有陶瓷材料、玻纖布、聚四氟乙烯、其它熱固性樹(shù)脂等。在所有的樹(shù)脂中,聚四氟乙烯的介電常數(shù)(εr)和介質(zhì)耗角正切(tanδ)最小,而且耐高低溫性和耐老化性能好,最適合于作高頻基板材料,是目前采用量最大的微波印制板制造基板材料。

  隨著3G通訊的迅猛發(fā)展,設(shè)計(jì)者對(duì)印制板介質(zhì)材料的選擇,更加復(fù)雜。遙想當(dāng)年,材料的選擇是基于價(jià)格和性能的抉擇。通常來(lái)講,設(shè)計(jì)師選擇材料時(shí),注重的往往是電性能指標(biāo)、溫度穩(wěn)定性、頻率穩(wěn)定性和熱膨脹系數(shù)指標(biāo)。

  反過(guò)來(lái),相當(dāng)于微波印制板的制造者來(lái)說(shuō),更加關(guān)注的是微波材料的可加工特性。在微波印制板的制作過(guò)程中,鉆孔、孔金屬化前的活化處理、金屬化孔制作、層壓及表面涂敷處理等工序的加工及過(guò)程控制,將直接制約著最終微波印制板的質(zhì)量及可靠性。

  縱觀微波印制板的加工歷史,經(jīng)歷了簡(jiǎn)單雙面微帶板的制作、雙面耦合微波板的制作、孔金屬化微波印制板的制作,以及目前方興未艾的微波多層印制板的制作。林林總總,所有這些,都是建立在印制板制作工藝技術(shù)不斷提升的基礎(chǔ)之上。

  在多層微波印制板的制造方面,美國(guó)同行已掌握并實(shí)現(xiàn)了多種型號(hào)雙面微波層壓板基材的微波印制板多層化制造技術(shù)。其中包括微波介質(zhì)基板多層化層壓制造、金屬化孔互連及埋/盲孔制造、多層微波印制板電裝及耐環(huán)境保護(hù)性阻焊膜制造、多層微波線路表面電鍍鎳金以及多層微波印制基板的三維數(shù)控銑加工等制造技術(shù)。

2、微波覆銅箔板材料的特性

  毋庸置疑,在目前微波多層板的設(shè)計(jì)和制造過(guò)程中,選用較多的是介電常數(shù)為2.94的聚四氟乙烯覆銅箔板材料。由于制造的工藝實(shí)現(xiàn),需依據(jù)不同微波板材的各性特性,所以通過(guò)以下簡(jiǎn)介,希望給各位一個(gè)初步認(rèn)識(shí)。

  這里著重介紹的是一種陶瓷粉填充、玻璃短纖維增強(qiáng)的聚四氟乙烯(PTFE)微波覆銅箔板材料,通過(guò)它的多層化加工,可以實(shí)現(xiàn)微波多層印制板的制造。此類材料應(yīng)用最多的是美國(guó)Rogers公司生產(chǎn)的RT / duroid 6002板材,它具有以下顯著特點(diǎn):

 ?。?)卓越的高頻低損耗特性;
 ?。?)嚴(yán)格的介電常數(shù)和厚度控制;
 ?。?)極佳的電氣和機(jī)械性能;
 ?。?)極低的介電常數(shù)熱系數(shù);
  (5)與銅相匹配的平面膨脹系數(shù);
 ?。?)低Z軸膨脹;
  (7)低的逸氣性,是空間應(yīng)用的理想材料。

  由于具有上述之種種優(yōu)點(diǎn),目前該種微波高頻介質(zhì)材料廣泛應(yīng)用于以下諸方面:

 ?。?)相列天線;
 ?。?)地面和機(jī)載雷達(dá)系統(tǒng);
  (3)全球定位系統(tǒng)天線;
 ?。?)大功率底板;
  (5)高可靠性復(fù)雜多層線路;
 ?。?)商業(yè)用航空防撞系統(tǒng);

  此種高頻介質(zhì)板材RT / duroid 6002的主要性能,參見(jiàn)表1。

表1 RT / duroid 6002微波印制板材性能一覽

性能

代表值

單位

條件

測(cè)試方法

介電常數(shù)

2.94±0.04

---

10GHz / 23℃

IPC-TM-650 2.5.5.5

損耗因數(shù)

0.0012

---

10GHz / 23℃

IPC-TM-650 2.5.5.5

介電常數(shù)熱系數(shù)

+12

ppm / ℃

10GHz / 1-100℃

IPC-TM-650 2.5.5.5

體積電阻

106

MΩcm

COND A

ASTM D257

表面電阻

107

COND A

ASTM D257

抗張模量

828

MPa

23℃

ASTM D638

壓縮模量

2482

MPa


ASTM D638

吸水率

0.1

%

---

IPC-TM-650 2.6.2.1

熱傳導(dǎo)率

0.60

W/ m /K

80℃

ASTM C518

熱膨脹系數(shù)(X,Y,Z方向)

16,16,24

ppm / ℃

10K/min

ASTM D3386

密度

2.1

---

gm / cm3

ASTM D792

比熱

0.93

---

J / g / K

---

剝離強(qiáng)度

8.9

lbs / in

---

IPC-TM-650 2.4.8

可燃性

94V-0

---

---

UL

 


3、微波印制板多層化制造工藝流程

  微波多層板的制造,按照設(shè)計(jì)的需求,可以有多種實(shí)現(xiàn)途徑。鑒于設(shè)計(jì)具體需求的差異,可采取各自不同的工藝路線。以下列出的是一種典型微波多層板的制造工藝流程:

  (1)光繪模版及內(nèi)層圖形制作:

微波多層板的制造工藝流程 

4、討論

  由于微波多層板所需用介質(zhì)材料的特點(diǎn),給多層板的實(shí)現(xiàn)帶來(lái)了一系列問(wèn)題。例如,多層板制造用粘結(jié)片的選擇、多層微波印制板的層壓實(shí)現(xiàn)方式、以及聚四氟乙烯類微波多層印制板的孔金屬化制造前的材料表面活化處理,都將是微波多層印制板工藝所必須加以深入研究的課題。下面,將簡(jiǎn)單加以介紹。

  4.1 微波印制板多層化制造的粘結(jié)片選擇

  眾所周知,無(wú)論何種形式多層板的制造實(shí)現(xiàn)技術(shù),基本離不開(kāi)層壓實(shí)現(xiàn)所發(fā)揮重要作用的粘結(jié)片材料。目前,包括美國(guó)ROGERS公司、美國(guó)ARLON公司和美國(guó)TACONIC公司在內(nèi),均有針對(duì)其不同類型微波介質(zhì)基板材料,實(shí)現(xiàn)多層板制造的半固化片材料提供。除此以外,尚有多家公司提供的半固化片材料,可用于層壓制造,現(xiàn)將各公司半固化片情況綜合列表如下。

表2半固化片性能一覽

半固化片名稱

介電常數(shù)
(10GHZ)

損耗因數(shù)
(10GHZ)

Tg(℃)

公司

RO4403

3.17

0.0050

Rogers

RO4450B

3.54

0.0040

Rogers

25N

3.38

0.0025

Arlon

25FR

3.58

0.0035

Arlon

CuClad6250

2.32

0.0013

Arlon

CuClad6700

2.35

0.0025

Arlon

FV6700

2.35

0.0025

Neltec

TacBond HT1.5

2.35

0.0025

Taconic

Speedboard C

2.60

0.0036

220

Gore

R/Flex3908

2.90

0.0020

280

Rogers

CLTE-P

2.94

0.0025

Arlon

Speedboard N

3.00

140

Gore

RO3001

2.28

0.0030

176

Rogers

TacPreg/ TacBond

3.20

0.0022

Taconic

 

  從上述表2所列粘結(jié)片材料來(lái)看,微波多層印制電路板的制造將會(huì)較為復(fù)雜,由于各類型粘結(jié)片的特性差異,在選用過(guò)程中,會(huì)出現(xiàn)這樣那樣的困難,最終將需一個(gè)持續(xù)探索和研究的過(guò)程。

  4.2 微波印制板多層化制造的層壓控制

  由于粘結(jié)片選用類型的差異,相應(yīng)之層壓制造工藝,將會(huì)有所區(qū)別。這里將選用幾種粘結(jié)片材料來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。

  4.2.1 半固化片25FR層壓工藝研究

表3 層壓過(guò)程溫度記錄(25FR)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

0

24

31

104

62

167

1

25

32

106

63

168

2

25

33

108

64**

170

3

26

34

110

65

172

4

27

35

112

66

173

5

28

36

114

67

175

6

29

37

117

68

177

7

31

38

119

69

178

8

33

39

122

70

180

9

36

40

125

71


10

39

41

127

72


11

42

42

130

73


12

45

43

133

74


13

49

44

135

75


14

54

45

138

76


15

58

46

140

77


16

63

47

142

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17

66

48

144

79

18

70

49

146

80

19

75

50

147

81

20

79

51

149

82

21

83

52

151

83

22

86

53

152

84

23

89

54

154

85

24

92

55

156

86

25

95

56

157

87

26

97

57

159

88

27

99

58

161

89

28*

100

59

162

90

29

101

60

164

91

30

103

61

165

92

 

  4.2.2 半固化片SpeedBoard C低Tg層壓工藝研究
 

表4 層壓過(guò)程溫度記錄(SPEEDBOARDC)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

0

24

31

120

62

168

1

24

32

123

63

168

2

24

33

126

64

169

3

24

34

129

65

169

4

25

35

131

66

170

5

25

36

134

67*

170

6

27

37

136

68

170

7

28

38

138

69

171

8

29

39

140

70

171

9

32

40

143

71

172

10

34

41

145

72

172

11

37

42

146

73

173

12

40

43

148

74

173

13

43

44

150

75

174

14

47

45

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76

174

15

51

46

153

77

175

16

56

47

154

78


17

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48

156

79

18

66

49

157

80

19

71

50

158

81

20

76

51

159

82

21

82

52

160

83

22

88

53

161

84

23

93

54

162

85

24

98

55

163

86

25

101

56

164

87

26

104

57

165

88

27

107

58

165

89

28

110

59

166

90

29

113

60

167

91

30

117

61

167

92

 

 

  4.2.3 半固化片RO4450B層壓工藝研究

表5 層壓過(guò)程溫度記錄(4450B)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

時(shí)間(min)

溫度(°C)

0

19

31

108

62

167

1

19

 

32

110

63

168

2

20

33

111

64

169

3

21

34

113

65

170

4

22

35

115

66

172

5

23

36

118

67

172

6

24

37

121

68

173

7

26

38

124

69

174

8

29

39

126

70

174

9

32

40

129

71

175

10

36

41

131

72

175

11

40

42

134

73


12

45

43

137

74


13

50

44

139

75


14

56

45

141

76


15

60

46

143

77


16

65

47

146

78


17

69

48

148

79

18

73

49

150

80

19

77

50

152

81

20

81

51

154

82

21

85

52

156

83

22

88

53

157

84

23

91

54

159

85

24

94

55

160

86

25

96

56

161

87

26

98

57

162

88

27

101

58

163

89

28

102

59

165

90

29

105

60**

166

91

30*

106

61

167

92

 

 

  4.3 孔金屬化制造前材料表面活化問(wèn)題

  由于聚四氟乙烯材料的憎水性及其表面能很低的特性,其印制板孔金屬化不同于常規(guī)的印制板,對(duì)它進(jìn)行孔金屬化和電鍍是很困難的。而金屬化孔質(zhì)量的好壞直接影響多層微波基板的質(zhì)量。

  眾所周知,對(duì)于聚四氟乙烯高頻多層印制電路板的孔金屬化制造,其最大的難點(diǎn)是化學(xué)沉銅前的活化前處理,也是最為關(guān)鍵的一步。

  有多種方法可用于化學(xué)沉銅前處理,但總結(jié)起來(lái),能達(dá)到保證產(chǎn)品質(zhì)量并適合于批生產(chǎn)的,主要有以下兩種方法:

  4.3.1 化學(xué)處理法

  金屬鈉和萘,于非水溶劑如四氫呋喃或乙二醇二甲醚等溶液內(nèi)反應(yīng),形成一種萘鈉絡(luò)合物。各組份之配比請(qǐng)參見(jiàn)下表6。
該鈉萘處理液,能使孔內(nèi)之聚四氟乙烯表層原子受到浸蝕,從而達(dá)到潤(rùn)濕孔壁的目的。此為經(jīng)典成功的方法,效果良好,質(zhì)量穩(wěn)定。

 表6 鈉萘處理液各組份配比示例

藥品名稱

份額

金屬鈉

2.3克(0.1摩爾)

12.8克(0.1摩爾)

乙二醇二甲醚

100毫升

 

 

  世事無(wú)絕對(duì),凡事都要采取一分為二的態(tài)度。對(duì)于此種聚四氟乙烯鈉萘處理液來(lái)說(shuō),也有其制備、使用和儲(chǔ)存方面不易的一面,簡(jiǎn)述如下:

 ?。?)該種聚四氟乙烯鈉萘處理液之制備反應(yīng),屬非水溶劑化反應(yīng)(類似于有機(jī)合成之格氏反應(yīng))。對(duì)于具備一定化學(xué)合成經(jīng)驗(yàn)的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō),尚不能保證每次合成之成功率。對(duì)于不具備此類水平的人員來(lái)講,實(shí)現(xiàn)該處理液的配制,較為困難。

 ?。?)由上可知,制備前對(duì)反應(yīng)瓶的去水之烘干處理很重要。

 ?。?)上述反應(yīng),需在氮?dú)獾谋Wo(hù)下進(jìn)行。因此,對(duì)反應(yīng)裝置的搭建,需進(jìn)行一定的考慮,并善于進(jìn)行總結(jié)。

 ?。?)該反應(yīng)過(guò)程中,會(huì)產(chǎn)生一定的熱量,而此反應(yīng)成功之關(guān)鍵之一,是確保反應(yīng)過(guò)程藥液溫度需低于5℃??赏ㄟ^(guò)冰浴或冰鹽浴來(lái)保證。

 ?。?)作為反應(yīng)主要成份的金屬鈉,易燃,危險(xiǎn)性大。一方面需專人管理,另一方面在反應(yīng)前需對(duì)其進(jìn)行小塊化處理,只有這樣,才能確保該種聚四氟乙烯鈉萘處理液的成功合成。有時(shí),金屬鈉來(lái)料質(zhì)量的好壞,直接關(guān)系到最終之成敗。

 ?。?)最后,對(duì)于鈉萘處理液來(lái)講,其毒性大,且保質(zhì)期較短,應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)情況進(jìn)行配制。不用時(shí),選用棕色細(xì)口瓶進(jìn)行密閉保存。此外,采用該處理液對(duì)聚四氟乙烯進(jìn)行孔壁作用后,可將其及時(shí)倒回棕色瓶?jī)?nèi),留作下回再次使用。

  4.3.2 等離子體處理法(PLASMA)

  等離子體,是指像紫色光、霓虹燈光一樣的光,也有稱其為物質(zhì)的第四相態(tài)。等離子體相態(tài)是由于原子中激化的電子和分子無(wú)序運(yùn)動(dòng)的狀態(tài),所以具有相當(dāng)高的能量。

 ?。?)機(jī)理:

  在真空室內(nèi)部的氣體分子里施加能量(如電能),由加速電子的沖撞,使分子、原子的最外層電子被激化,并生成離子,或反應(yīng)性高的自由基。

  如此產(chǎn)生之離子、自由基被連續(xù)的沖撞和受電場(chǎng)作用力而加速,使之與材料表面碰撞,并破壞數(shù)微米范圍以內(nèi)的分子鍵,誘導(dǎo)削減一定厚度,生成凹凸表面,同時(shí)形成氣體成分的官能團(tuán)等表面的物理、化學(xué)變化,提高鍍銅粘結(jié)力、除污等作用。

  上述等離子體處理用氣體常見(jiàn)的有氧氣、氮?dú)夂退姆細(xì)?。下面通過(guò)由氧氣和四氟化碳?xì)馑M成之混合氣體,舉例說(shuō)明等離子體處理之機(jī)理:

  (2)用途:

  1、凹蝕 / 去孔壁樹(shù)脂沾污;

  2、提高表面潤(rùn)濕性(聚四氟乙烯表面活化處理);

  3、采用激光鉆孔之盲孔內(nèi)碳的處理;

  4、改變內(nèi)層表面形態(tài)和潤(rùn)濕性,提高層間結(jié)合力;

  5、去除抗蝕劑和阻焊膜殘留。

  (3)舉例:

  A.純聚四氟乙烯材料的活化處理

  對(duì)于純聚四氟乙烯材料的活化處理,是采用單步活化通孔工藝。所用氣體絕大部分是氫氣和氮?dú)獾慕M合。

  待處理板無(wú)需加熱,因?yàn)榫鬯姆蚁┍惶幚沓苫钚裕瑵?rùn)濕性有所增加。真空室一旦達(dá)到操作壓力,啟用工作氣體和射頻電源。

  大多數(shù)純聚四氟乙烯板的處理僅需約20分鐘。然而,由于聚四氟乙烯材料的復(fù)原性能(回復(fù)到不潤(rùn)濕表面狀態(tài)),化學(xué)沉銅之孔金屬化處理需在經(jīng)等離子體處理后的48小時(shí)內(nèi)完成。

  B.含填料聚四氟乙烯材料的活化處理

  對(duì)于含填料的聚四氟乙烯材料制造的印制電路板(如不規(guī)則的玻璃微纖維、玻璃編織增強(qiáng)和陶瓷填充之聚四氟乙烯復(fù)合物),需兩步處理。

  第一步,清潔和微蝕填料。該步典型之操作氣體為四氟化碳?xì)狻⒀鯕夂偷獨(dú)狻?/p>

  第二步,等同于前述純聚四氟乙烯材料表面活化處理所采用的一步法工藝。

5、結(jié)論

  各類通訊用特種印制板之一的微波印制板,尤其是聚四氟乙烯類微波材料的運(yùn)用,在原有對(duì)印制板之單、雙面制造要求的基礎(chǔ)上,逐漸向微波多層化電路板制造方向邁進(jìn)。這種微波多層印制電路板有別于傳統(tǒng)意義上的多層印制板,由于其層壓制造之特殊性,除了微波多層板粘結(jié)材料的選擇、微波多層板的層壓制造、以及微波多層板的孔金屬化前活化處理,必須認(rèn)真研究對(duì)待以外,對(duì)層間重合精度、圖形制作精度、層間介質(zhì)層厚度一致性、鍍層均勻性及涂覆類型,也提出了更為苛刻的要求。

  進(jìn)入二十一世紀(jì)以來(lái),無(wú)論是各類微波多層印制板的設(shè)計(jì)需求數(shù)量,還是制造工藝要求質(zhì)量,都在迅速發(fā)展之中。由于其獨(dú)特的產(chǎn)品特征,在電子、通信、汽車、軍事、計(jì)算機(jī)等領(lǐng)域中將大顯身手,未來(lái)的應(yīng)用會(huì)越來(lái)越廣泛。

 

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